静電チャック用金属箔ヒーター

熱のコントロールの精度が半導体生産効率を支える

半導体の微細化デザインが進むにつれ、その製造工程で熱のコントロールの重要性がますます高まっています。特に前工程では、熱のコントロールがスループットにも影響する重要なファクターになります。

現在のウエハーサイズは300㎜が主流ですが、そのウエハーに搭載された半導体チップすべてに対して、理想では均一に同タイミングで加熱させ、必要温度条件に達成させる必要があります。同一ウエハー上の温度差があればあるほど歩留まりに影響が出てきます。

一般的には半導体製造プロセスは複数の製造装置が連なり、ウエハーはロボットなどの搬送機器を通じて製造装置を行き来しますが、そこで活躍するのがヒーター内蔵型静電チャックです。

静電チャックは静電気を使い電化を移動させることで生まれる力を用いてウエハーを傷つけずに搬送しますが、最新の製品では静電チャックに加熱させるヒーター機能を持たせています。これによりウエハー面内におけるプラズマの密度の相違、冷却ガスの流れ分布の相違などに起因する温度ムラを制御し、均一に保つことができます。