什麼是封裝用金屬蓋

單獨的半導體晶片需要封裝後才能使用並發揮其功能。半導體封裝具有發散內部熱量,防止外部的衝擊保護晶片等各種作用。晶片封裝後須將其密封以保護內部的芯片(die),而其中一種方法是使用金屬蓋(LID)。

金屬蓋的封裝方式:

通常安裝在智能手機等精密儀器中的水晶振盪器和SAW等半導體元件,必須具有耐衝擊性。因此,一部分封裝使用陶瓷製作的外殼,並用金屬蓋密封。      

UPT的方案介紹

UPT的光蝕刻加工製造半導體封裝用金屬蓋(LID)。

產品特點

  • 能夠加工複雜的形狀,以提高密封強度。交貨期短,最適於Cut and Try的製造程序。
  • 初始成本只需要花費原版費,可以嘗試多種不同形狀並找出最適的尺寸。
  • 本公司備有豐富種類的材料庫存,可以實現短期間交貨與理想的金屬蓋製造。

UPT的光蝕刻加工金屬蓋產品規格

半導体パッケージ封止用LID

金屬蓋產品規格事例

金屬種類:能夠光蝕刻加工的金屬(鎢系金屬、金、銀除外)
厚度:任何厚度(0.004mm~)
加工精度:<10%(相對金屬板厚度)
表面加工:鍍金等各種電鍍

特點①

光蝕刻加工的標準交貨期為一個星期
實現複雜形狀的高品質金屬蓋

高度品質管理的金屬箔片,將材料的翹曲與變形控制在最低限。高度技術製造的金屬蓋,是不會產生毛刺、浮 渣等異物的高精度產品。除了兩面半蝕刻加工製作複雜的形狀之外,還能加工最薄到金屬板厚度20%的各種超薄形狀。光蝕刻加工的另一個優點是收到訂單後大約一個星期的短交貨期。

特點②

初始成本只需要原版費
可以隨意嘗試原型試作

光蝕刻是一種將金屬熔解的加工方式。與衝壓等其他的加工不同,初始成本只需要原版費,不需要高價的模具。從挑選材料到決定尺寸,可以同時試作各種不同的產品,確認和半導體封裝的兼容性之後決定產品的最終規格,對於半導體的開發程序是一種非常方便的加工方式。

特點③

備有顧客所需的各種材料庫存

本公司庫存備有約500種不同材質以及厚度的金屬材料。例如SUS304的材料,能夠接受以50μm為基準、厚度差5μm間隔的5種材料的訂單。因此,能夠同時試作複數種類的產品以確認金屬蓋所需的加工精度和強度。此外難以切割的Kovar合金也能夠加工。